美国发明专利申请的审查流程美国再颁专利申请程序

2023-07-16 15:26:48 | 好商标网

美国发明专利申请的审查流程

与我国发明专利申请的审查流程类似，一件美国发明专利申请提交至 USPTO后大致需要经过初审、公开、实审、授权等几个阶段。其中每个阶段审查的内容及流程如下：

1.初审

初审是对申请人提交的文件是否齐全、内容是否符合形式性要求以及是否已缴纳相关费用进行审查。如果存在需要申请人补正的缺陷 USPTO会发出补正通知书；如果初审合格则发出正式受理通知书。初审合格后专利申请将被分配分类号和技术中心并发送至相应技术中心的审查员。

2.公开

美国专利申请自优先权日起18个月后公开。在绝大多数情况下公开是美国专利申请的必经程序。美国与中国均可以根据申请人的请求提前公开专利申请。不同于中国美国还可以根据申请人的请求不公开专利申请。但不公开专利申请的条件仅限于该申请的内容不会以其他形式公开。例如如果美国专利申请的某一同族专利申请根据所在国家或地区法律必须公开则对美国专利申请的不公开请求就不会被批准。如果申请人在美国提交了不公开请求然后再在其他要公开国家或地区提交相应的专利申请的话申请人必须在国外递交专利申请之前向 USPTO递交撤销不公开请求的请求或者在国外专利申请的递交日期后45天之内向 USPTO递交国外申请通知以免专利申请无效。

3.实质审查

不限于发明专利实质审查程序是所有美国专利申请获得授权的必经程序。美国的实质审查不是请求制专利申请在初审合格后自动进入实质审查程序。在实质审查程序中审查员对美国专利申请是否满足专利法规定的可专利要件进行审查，对现有技术进行检索并发出审查意见通知书，申请人对通知书的答复意见。实质审查不一定在公开之后才会进行，如果 USPTO认为有必要或者申请人提出了加速审查请求并获得批准实质审查程序可能先于公开程序进行。

4.授权

当审查员认为专利申请已满足授权要求则发出授权通知书通知申请人缴纳授权费用随后专利申请即进入授权公告程序。

以上就是美国专利申请的审查流程，希望通过上述介绍您对其有一个大致的了解。

美国再颁专利申请程序

当一份美国专利申请经过美国商标专利局审查通过并授权取得专利证书后，专利权人又发现该专利存在遗漏，错误或者缺陷，而这些缺陷多于应获得的权利，或者使得该专利完全或部分无法实施或无效，这时申请人可以提出再颁专利申请程序来解决。美国再颁专利申请是美国专利授权后专利申请文件修改的一种方式，美国专利再颁程序被认为是一种挽救专利“有效性”的机制，对激发社会创新活力起到了非凡的作用。

一、再颁专利的程序要求

再颁专利程序只能由专利权人提出申请。再颁申请由美国专利商标局依法作为一个新申请进行审查。正常情况来说，再颁专利具有与原专利同样的效力和作用，但是由于再颁程序是对权利范围的重新界定，有可能损害到公众的利益，为此法律规定第三人有参与的权利，并对再颁专利进行了严格的限定，这样再颁专利的效力就有不同的情况：

1.对于权利范围与原专利一致的再颁专利从原专利生效日起继续有效；

2.对于权利范围不同于原专利的再颁专利只能从再颁日起主张权利；

3.再颁后法律授予公众一种绝对的权力，即继续实施和从事再颁前已进行的合法行为。再颁前不侵权的使用或销售，再颁前已开始的投资或交易，只要是合法的，再颁后都可以继续，不会被视为侵权。

二、再颁专利程序申请的条件

1.要证明提起再颁程序的专利完全或部分无效或无法实施，比如说明书或附图中的错误使专利无法实施，或由于专利权要求的权利大于应有权要求的；

2.要证明专利中的缺陷是由于不含欺诈意图的错误引起的，比如证明错误的出现不是有意为了隐藏技术方案的内容；

3.要证明没有在该程序中的申请中加入新的内容，即再颁专利必须得到原说明书公开内容的支持；

4.对于扩大保护范围的再颁专利申请，应当在原专利授权日起2年内提出。因为扩大权利范围可能会影响到公众的利益，包括竞争对手的利益，所以法律规定只有在授权的2年内可以提出。此外，对于缩小权利范围的再颁请求，因为不会影响到公众利益，所以会给予充分的时间提出，即可以在专利有效期内的任何时候提出。

5.要证明再颁的主题具有专利性。

三、再颁专利程序的注意事项

1.专利权人提出再颁申请，该申请程序应当同新申请相同；

2.再颁誓词或声明中应当表明全体发明人或受让人同意提出申请；

3.要求申请人声明原专利有缺陷；

4.再颁申请应包含原专利证书或放弃原专利的声明；如果再颁被驳回，美国专利商标局将归回原专利证书；

5.原专利申请有优先权的，再颁申请应当提出优先权声明；

6.要求扩大权利范围的再颁申请应当在规定的期限内提出，即原专利授权日起2年内；

7.专利申请审批的法规都适用于再颁申请；

8.再颁申请被授予专利时，原专利即被视为自动放弃。

虽然说再颁专利申请给了专利权人对专利缺陷一次修正的机会，但对于专利权人来说该程序也存在一些潜在的危险。因为再颁专利申请中所有的权利要求，包括已经授权的都将被重新审查，并可能被驳回。即再颁实质上是一次再审的过程。其次，对于原专利与再颁专利不同的权利，专利权人只能从再颁日起主张权利，因而可能因为再颁导致本来侵权的行为变为不侵权。此外，再颁的审查过程中的文件是对公众公开的，这样再颁中的意见陈述或参考文件都可能被他人利用来对抗专利权。最后，再颁专利申请也需要重新缴纳费用，对于一般的企业来说也是非常大的压力。

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