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香港专利申请(标准专利、短期专利、外观设计) 美国再颁专利申请程序

2023-07-21 23:03:06 | 好商标网

香港专利申请(标准专利、短期专利、外观设计)

由于实行一国两制的原因,中国的专利在香港并不受到保护,如果想得到香港地区法律的保护,必须在申请相关的专利。香港分为3种,分别为标准专利、短期专利和外观设计专利。在香港申请标准专利,必须以指定的海外专利局或中国国家知识产权局批予的专利注册为基础。而短期专利和外观设计专利则可以直接向香港知识产权署申请。

一、香港专利申请类型概况

1、标准专利

标准专利不能在香港直接申请,必须分两个阶段进行:

第一阶段:在中国国家知识产权局、欧洲专利局或英国专利局提出申请, 在收到形式审查通知书后的6个月内向香港知识产权署提交第一阶段申请。

第二阶段:专利在中国、欧洲或英国授权公告后的6个月内向香港知识产权署提交第二阶段申请。

2、短期专利

短期专利可直接在香港申请,但须提交由下列其中一个当局发出的检索报告:中国国家知识产权局、欧洲专利局、英国专利局或者《专利合作条约》委任的各个国际检索局(如:美国、日本、韩国、西班牙等)。

3、外观设计

注册外观设计,保护的是产品的新设计形状、装饰及视觉美感,但不保护功能和使用方法。如电脑、手提电话、纺织品、珠宝、手表的外部设计。


二、申请香港专利所需资料及有效期

1、标准专利

(1)所需资料

①发明的中英文名称;

②申请人的姓名、地址;

③发明人的姓名、地址;

④专利申请文件;

⑤摘要的中英文译本;

⑥基础申请的公告副本;

⑦有关资料、文件的中英文译本。

(2)有效期

第3年届满后每年续期一次,有效期最长为20年。

(3)注意事项

不可直接在香港申请,须在获得中国、欧洲或英国授权公告后的6个月内向香港知识产权署提交申请。

2、短期专利

(1)所需资料

①发明的中英文名称;

②申请人的姓名、地址;

③发明人的姓名、地址;

④专利文件;

⑤检索报告;

⑥摘要的中英文译本。

(2)有效期

第4年届满后续期一次,有效期最长为8年。

(3)注意事项

可直接在香港申请,但须提交由中国国家知识产权局、欧洲专利局、英国专利局、《专利合作条约》委任的各个国际检索局(如:美国、日本、韩国、西班牙等)任意一个当局发出的检索报告。

3、外观设计专利

(1)所需资料

①设计的中英文名称;

②申请人的姓名、地址;

③设计人的姓名、地址;

④设计产品的图片;

⑤外观设计的简要说明。

(2)有效期

每5年续期1次,最长25年

(3)注意事项

申请香港外观设计专利可直接向香港知识产权署申请。

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美国再颁专利申请程序

当一份美国专利申请经过美国商标专利局审查通过并授权取得专利证书后,专利权人又发现该专利存在遗漏,错误或者缺陷,而这些缺陷多于应获得的权利,或者使得该专利完全或部分无法实施或无效,这时申请人可以提出再颁专利申请程序来解决。美国再颁专利申请是美国专利授权后专利申请文件修改的一种方式,美国专利再颁程序被认为是一种挽救专利“有效性”的机制,对激发社会创新活力起到了非凡的作用。

一、再颁专利的程序要求

再颁专利程序只能由专利权人提出申请。再颁申请由美国专利商标局依法作为一个新申请进行审查。正常情况来说,再颁专利具有与原专利同样的效力和作用,但是由于再颁程序是对权利范围的重新界定,有可能损害到公众的利益,为此法律规定第三人有参与的权利,并对再颁专利进行了严格的限定,这样再颁专利的效力就有不同的情况:

1.对于权利范围与原专利一致的再颁专利从原专利生效日起继续有效;

2.对于权利范围不同于原专利的再颁专利只能从再颁日起主张权利;

3.再颁后法律授予公众一种绝对的权力,即继续实施和从事再颁前已进行的合法行为。再颁前不侵权的使用或销售,再颁前已开始的投资或交易,只要是合法的,再颁后都可以继续,不会被视为侵权。



二、再颁专利程序申请的条件

1.要证明提起再颁程序的专利完全或部分无效或无法实施,比如说明书或附图中的错误使专利无法实施,或由于专利权要求的权利大于应有权要求的;

2.要证明专利中的缺陷是由于不含欺诈意图的错误引起的,比如证明错误的出现不是有意为了隐藏技术方案的内容;

3.要证明没有在该程序中的申请中加入新的内容,即再颁专利必须得到原说明书公开内容的支持;

4.对于扩大保护范围的再颁专利申请,应当在原专利授权日起2年内提出。因为扩大权利范围可能会影响到公众的利益,包括竞争对手的利益,所以法律规定只有在授权的2年内可以提出。此外,对于缩小权利范围的再颁请求,因为不会影响到公众利益,所以会给予充分的时间提出,即可以在专利有效期内的任何时候提出。

5.要证明再颁的主题具有专利性。

三、再颁专利程序的注意事项

1.专利权人提出再颁申请,该申请程序应当同新申请相同;

2.再颁誓词或声明中应当表明全体发明人或受让人同意提出申请;

3.要求申请人声明原专利有缺陷;

4.再颁申请应包含原专利证书或放弃原专利的声明;如果再颁被驳回,美国专利商标局将归回原专利证书;

5.原专利申请有优先权的,再颁申请应当提出优先权声明;

6.要求扩大权利范围的再颁申请应当在规定的期限内提出,即原专利授权日起2年内;

7.专利申请审批的法规都适用于再颁申请;

8.再颁申请被授予专利时,原专利即被视为自动放弃。

虽然说再颁专利申请给了专利权人对专利缺陷一次修正的机会,但对于专利权人来说该程序也存在一些潜在的危险。因为再颁专利申请中所有的权利要求,包括已经授权的都将被重新审查,并可能被驳回。即再颁实质上是一次再审的过程。其次,对于原专利与再颁专利不同的权利,专利权人只能从再颁日起主张权利,因而可能因为再颁导致本来侵权的行为变为不侵权。此外,再颁的审查过程中的文件是对公众公开的,这样再颁中的意见陈述或参考文件都可能被他人利用来对抗专利权。最后,再颁专利申请也需要重新缴纳费用,对于一般的企业来说也是非常大的压力。

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美国发明专利申请的审查流程与我国发明专利申请的审查流程类似,一件美国发明专利申请提交至USPTO后大致需要经过初审、公开、实审、授权等几个阶段。其中每个阶段审查的内容及流程如下:1.初审初审是对申请人提交的文件是否齐全、内容是否符合形式性要求以及是否已缴纳相关费用进行审查。如果存在需要申请人补正的缺陷USPTO会发出补正通知书;如果初审合格则发出正式受理通知书。初审合格后专利申请将被分配分类号

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